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G1蒸鍍?cè)O(shè)備
應(yīng)用場(chǎng)景：應(yīng)用于OLED材料、OLED小型器件制備研究驗(yàn)證以及OLED面板量產(chǎn)工藝驗(yàn)證

產(chǎn)品特點(diǎn)



– 可蒸鍍基板尺寸200mm*200mm

– Cluster Type

– 標(biāo)準(zhǔn)化

– 模塊化

– 成膜均勻性高

– 對(duì)位精度高

– 運(yùn)營(yíng)穩(wěn)定

核心技術(shù)



– 可滿足客戶定制需求

– 蒸鍍模擬技術(shù)

– 溫度及壓力控制技術(shù)

– PID控制技術(shù)

– Log分析技術(shù)

– 高精密對(duì)位補(bǔ)償算法



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